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制ito粉设备
制ito粉设备
一种ITO粉体的制备方法CNA PatentGuru
2024年5月7日 本发明属于材料制备技术领域，具体涉及一种ITO粉体的制备方法，包括将设定比例的四水氯化铟和无水乙醇混合均匀，经分散处理后得到混合液；将设定比例的五水氯化 近年来我国引进了多 条 ITO 膜生产线, 为制备高性能的膜, 必须 优先发展高质量的 ITO 靶材, 但其靶材由国 外供给, 国外对 ITO 靶材制备技术严密封锁 为此, 有必要对现有 ITO 靶材生产技术 铟锡氧化物 (ITO) 靶材的应用和制备技术百度文库铟锡氧化物(ITO)纳米粉体具有粒径小、比表面积大、分散性好、杂质少的特点,是制备性能良好的ITO薄膜的原料本文介绍了目前ITO纳米粉体的制备方法如:喷雾燃烧法、溶胶凝胶法、水热 铟锡氧化物纳米粉体的制备方法及分散的研究进展 USTB2020年10月23日 一种实心球形ito造粒粉的制备方法，先将氧化铟粉末、氧化锡粉末与去离子水混合制成浆料，之后向其中加入分散剂并研磨充分、加入粘结剂并混合均匀，然后加热浆料或调节浆料的ph值使浆料的粘度控制 一种实心球形ITO造粒粉的制备方法与流程 X技术网
一种制备高性能ito造粒粉的方法 X技术网
2016年11月9日 【专利摘要】一种制备高性能ITO造粒粉的方法，包括以下步骤：称取质量比为9：1的纯度大于9999%的氧化铟和氧化锡纳米粉末，加入去离子水和分散剂，配成一定固含 2021年6月21日 众所周知，ITO溅射靶材是将氧化铟和氧化锡粉按一定比例混合后，在高温气氛（1600度，氧气烧结）中经过一系列生产工艺形成的黑灰色陶瓷半导体。 以ITO靶材为原料，对ITO薄膜进行磁控溅射，将ITO靶材氧化到玻璃 ITO（氧化铟锡）靶材的四种主要成型方法 知乎2020年5月12日 ito造粒粉体的品质是决定ito靶材性能高低的重要因素，要求ito造粒粉体纯度高、活性好、均匀一致。制备ito粉末的主要方法有机械混合法、喷雾热分解法、溶胶凝胶法、水热 一种混合法制备ITO造粒粉体的方法与流程 X技术网2016年1月4日 氧化铟锡（ indiumtinoxide ）简称 ITO，ITO 靶材是一种功能陶瓷材料，主要用于制造 ITO 透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级 ITO 复合粉体。纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备
湖南艾缇欧新材料有限公司
2024年4月24日 公司依托于日本国立物质材料研究所（NIMS）技术创新力量支持，实现ITO粉体的进口替代，解决我国高端ITO靶材“卡脖子”技术难题，打破国外企业在ITO靶材技术上的垄断地位。本研究以金属铟和氯化锡为原料,采用化学共沉淀法制备了纳米ITO粉体。 研究了在不同的pH值、不同分散剂和不同的煅烧温度对粉末粒度、形貌、结构和团聚的影响,并用差热分析 (TGDTA) 纳米ITO粉体与浆料的制备及其性能 百度学术2016年11月9日 IT0(TindopedIndiumOxide)即氧化铟锡，是一种η型半导体材料，使用ITO革巴材，通过真空镀膜等途径制备的ITO薄膜已成为TFT1XD、PDP等平板显示器不可或缺的关键材料，也促使ITO靶材发展成令人瞩目的战略性高科技产业。靶材的品质直接决定薄膜性能的好坏，但国内镀膜厂家使用的高端ITO靶材一直依赖进口 一种制备高性能ito造粒粉的方法 X技术网2021年6月17日 其主要缺点为：靶材尺寸受设备压力和压缸的限制，制备大尺寸靶材困难。 13粉浆浇筑成形 粉浆浇注是将粉末与其特定的液体制成一定浓度的悬浮粉浆，注入具有所需形状的模具中，通过模具吸水作用使悬浮液固化，制得具一定形状的素坯的一种成形方法。高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势中国期刊网
制ito粉设备
制ito粉设备 2013年1月24日 ITO薄膜的制备主要集中于采用溅射法与沉积法直接在材料上形成功能性的薄膜从经济效益上看这种制备工艺限制了ITO粉体的应用。目制备纳米ITO粉的方法有 制ito 粉设备 2016年5月17日 图1为制备ITO粉体实验装置图。图1 微波强化喷雾热解法制备ITO粉体的实验装置图 Fig 1 Schematic diagram of the experimental setup preparing ITO by microwave enhanced ultrasonic spray pyrolysis 122制备ITO粉体工艺流程图 制备ITO粉体工艺流程如图2所喷雾热解法制备ITO粉体的研究*参考网 fx361cc2019年8月20日 粉末冶金最核心的竞争力就是粉体，能够独立生产高品质稳定的粉体的公司，会在未来占有一席之地。2、大尺寸烧结工艺 ITO靶材的另一个难点就是烧结工艺，精准的烧结工艺是烧结高品质靶材的关键。3、配套设备浅谈ITO靶材 知乎介绍 了ITO 粉 末 的 制 备 方 法 如 机 械 混 合 法、喷 雾 热 分 解 法、喷 雾 燃 烧 法、化 学 共 沉 淀 法、金 属 醇 盐 水 解 法、水 热 合成法等以及ITO 靶材的制备工艺。比较和分析了ITO 粉体和靶材各制备工艺的优缺点。最后 提 出 了 制 备 高 品 质 高密度氧化铟锡ITO靶材制备工艺的研究进展百度文库
一种单分散纳米ITO的制备方法与流程 X技术网
2021年1月5日 目前ito粉体的制备方法主要包括化学共沉淀法、水热合成法、溶胶凝胶法、喷雾热分解法等：化学共沉淀法是将铟锡盐溶解制备盐溶液，以碱性溶液为沉淀剂使金属阳离子沉淀得到前驱体，再进行干燥和煅烧制得ito粉体；水热合成法是将处于碱性环境的铟锡盐溶液2019年1月18日 本发明属于材料冶金领域，更具体的，涉及一种热球磨氧化制备超细ITO粉末的方法。背景技术铟锡氧化物(Indiumtinoxide，ITO)具有高透光率、低电阻率、制膜硬度高、良好化学稳定性和蚀刻性能等优点，广泛应用于液晶显示器、太阳能电池、薄膜发光器件、传感器等尖端制造领域。目前的制备方法都是 一种金属铟和金属锡制备超细ITO粉的方法与流程 X技术网2012年3月23日 利用自制的设备对粉体的电性能进行了检测，随着掺杂量的增大，粉 体的电阻呈现先减小 不同掺杂量在不同条件下制得的ITO粉体均符合In203的立方结 构，粒径均在40nm左右，掺入Sn后引起晶格畸变，XRD衍射峰向小 角度偏移， 导致晶格和晶胞 新型功能材料ATO、ITO制备工艺及其形貌和电性能的研究2020年3月16日 ITO 是一种N型氧化物半导体氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。 发展 真正进行ITO薄膜的研究工作还是19世纪末，当时是在光电导的材料上获得很薄的金属薄膜。关一文读懂ITO薄膜 知乎
纳米ITO粉末参数价格中国粉体网
2024年10月7日 k455纳米ITO粉末参数k455纳米ITO粉末参数及最新价格，公司客服7*24小时为您服务，售前/ 上海东庚设备工程技术有限公司 湖南粉 体装备研究院有限公司 复纳科学仪器（上海）有限公司 四川铁匠科技有限公司 纳米ITO粉体的制浆工艺利用 x射线 衍 射 分析 所 制 得 的 I O 粉 体 的 晶 T 型 和物相 以及 计算粉 体 的理论粒 径 。利 用透 射 电镜 （ E 来 测 量 粉 体 的 实 际粒 径 和 形 貌 以及 分 散 以 T M）状和 大面积 的制膜 产业化 。 采用 化学 共沉淀 法制 得 纳米ITO粉体的制浆工艺 百度文库2021年6月21日 众所周知，ITO溅射靶材是将氧化铟和氧化锡粉按一定比例混合后，在高温气氛（1600度，氧气烧结）中经过一系列生产工艺形成的黑灰色陶瓷半导体。以ITO靶材为原料，对ITO薄膜进行磁控溅射，将ITO靶材氧化到玻璃基 ITO（氧化铟锡）靶材的四种主要成型方法 知乎本文较为详细地研究了球形粉末后处理,冷等静压工艺,隔离材料等对热等静压制备ITO 靶材的影响,并对热等静压制备ITO 靶材的过程进行了计算机模拟结果表明:球形ITO 粉末进行热处理后形成了晶格常数相对于In2O3来说有所增大的单相ITO 固溶体,且粉体的摇实铟锡氧化物(ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究 百度学术
溶剂对ITO电极蚀刻的影响 华林科纳（江苏）半导体设备
2022年3月29日 扫码添加微信，获取更多半导体相关资料本文研究了室温下盐酸和王水溶剂对ITO膜腐蚀行为的影响，在王水中比在盐酸中获得更高的蚀刻速率，然而，通过XPS分析，发现在王水蚀刻剂中比在HCl中有更多的表面残留副产物，在王水和HCl中的表面浓度(氯与铟的比率)分别为72和038，还观察到，由于离子化 6 天之前 纳米ITO 粉 （ Indium Tin Oxides）是由氧化铟和氧化锡组成的纳米金属氧化物超微纳米粒子，是优良半导体，具有优异的透明性和导电性，常规产品为 In 2 O 3: SnO 2 =90:10，外观为深蓝色粉末，蓝色 ITO粉还具有阻隔红外线的特性，用于隔热节能领域。 产品参数 ：纳米ITO粉体 铟锡氧化物粉体 透明导电/隔热粉剂铟锡氧化物(ITO)纳米粉体具有粒径小、比表面积大、分散性好、杂质少的特点,是制备性能良好的ITO薄膜的原料本文介绍了目前ITO纳米粉体的制备方法如:喷雾燃烧法、溶胶凝胶法、水热合成法、化学液相共沉淀法、喷雾热解法、电解法和机械研磨法、燃烧合成法等,分析了不同制备方法的原 铟锡氧化物纳米粉体的制备方法及分散的研究进展 USTB2023年7月8日 7、进一步地，所述步骤1中，ito粉体、无水乙醇、分散剂的mol比为1：40：1 结晶，有效避免铟、锡离子的价态变化，使ITO涂料性能稳定，增加ITO薄膜对衬底的粘附性，制得的ITO薄膜不易气泡、脱落，可以实现在低于150℃环境下制备ITO 一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法及ITO薄膜与流程
一种高分散性ITO粉体的制备方法与流程 X技术网
本发明涉及氧化铟锡复合粉体制备技术领域，特别涉及一种以共沉淀法制备ITO粉体的方法。背景技术ITO薄膜可由ITO靶材经磁控溅射法制备得到，在工业生产中，大多采用磁控溅射法，将ITO靶材在玻璃上溅射成极薄的一层透明导电膜(厚度100nm左右)，对薄膜进行刻蚀，以制备平板显示器用的电极材料 2023年4月21日 本发明涉及氧化铟锡(ito)粉体的制造，特别涉及一种zn掺杂氧化铟锡(ito)粉体及其制备方法。背景技术： 1、氧化铟锡(indium tin oxide，ito)是由in2o3固溶sno2形成的n型半导体，具有高可见光透过率、低电阻率的特点， 一种Zn掺杂氧化铟锡粉体及其制备方法 X技术网靶材性能要求及制造工艺壁垒ITO 靶材制作流程主要包含制金属氧化物粉体、研磨、ITO 粉制造、模压成型、气氛烧结、wkbaidu加工、绑定、检测等步骤。靶材性能要求及制造工艺壁垒 百度文库2011年5月31日 主要研究了分散剂对ITO纳米粉体粒径的影响。用激光粒度仪、XRD、SEM对所得粉末进行表征。结果表明:随着分散剂的分子量的增加,所得ITO的粒径逐渐变小;加入不同分子量的PEG配合使用有利于制备纳米级颗粒,加入PEG(=11)作分散剂所制ITO粉末粒分散剂对铟锡氧化物(ITO)粉末粒径的影响 豆丁网
CF制程及设备介绍百度文库
2021年8月1日 进行ITO 制程 特性量测 学习文档 清洗玻璃面 利用离子撞击Target进 而产生导电梨子附著于 玻璃表面形成薄膜 了解CF工艺流程，制程产品的特性，以及重 要的制程设备 课程内容 1 CF制程简介 2 CF制程设备 3 CF制程特性 8/1/2021 学习文档 Part1 CF制 2017年11月5日 各段制程及设备 前中段制程进口替代市场空间千亿级别 TFTLCD与OLED生产工艺均可分为前段Array、中段Cell与后段Module三部分。其中Array、Cell、Module三个制程的设备投入占比约为7：25：05，24478亿的设备需求对应三个制程的设备分别为1,713亿OLED各段制程设备及企业汇总OLEDindustry2020年5月12日 本发明属于氧化铟锡复合粉体制备技术领域，涉及一种混粉法制备ito造粒粉体的方法，特别涉及一种高均匀性、高活性的ito造粒粉体的制备方法。背景技术ito靶材是制备ito导电玻璃的重要原料，通常是采用磁控溅射的方法将ito靶材制备成ito薄膜，其性能是决定导电玻璃产品质量、生产效率、成品率的 一种混合法制备ITO造粒粉体的方法与流程 X技术网2019年11月27日 本发明属于铟资源回收领域，尤其涉及一种从ito废靶重制ito粉的方法；更具体地，涉及一种利用电化学方法，从溶解有ito废靶的溶液中制备ito粉的方法。背景技术ito溅射靶材是由in2o3和sno2组成的氧化物烧结体，ito靶材镀膜利用率一般仅为60%，余为ito废靶。此外，在ito靶材制备过程中不可避免的会产生 一种用ITO废靶重制ITO粉的方法与流程 X技术网
锂电十大关键设备之一：制浆设备
2023年7月10日 针对双行星搅拌机效率不高的问题，一些厂家推出了新型的制浆工艺和设备，其中德国布勒推出的以双螺杆挤出机为核心设备的连续式制浆系统引起了广泛关注。双螺杆挤出机原本被广泛应用于塑料加工等行业，适用于高黏度物料的混合和分散。2024年10月1日 V751蓝色纳米ITO氧化铟锡公司参数宏武纳米V751蓝色纳米ITO氧化铟锡公司参数及最新价格，公司客服7*24小时为您服务，售前/ 粉体测试设备 激光粒度仪 沉降式粒度仪 在线粒度仪 白度仪 密度仪 粘度计 筛分仪 粉末流动测试仪 宏武纳米蓝色纳米ITO氧化铟锡公司参数价格中国粉体网：本发明涉及一种化学共沉淀法制备纳米级氧化铟锡(简称ITO)粉体的方法。采用本发明方法制得的ITO粉体适用于制备高品质的ITO靶材。背景技术： ：ITO薄膜由于具有良好的导电性、透光性和高的红外反射性，而被广泛应用于大屏幕液晶 纳米级氧化铟锡粉体的共沉淀制备方法与流程 X技 2020年11月9日 其TFT级ITO靶材的工艺方法采用常压烧结方法：选取超高活性ITO纳米粉，将造粒后的ITO粉通过模压成型，成型压力25～80MPa，保压时间15～300秒；再经冷等静压加固，等静压压力为180～300MPa，保压时间为300～1200秒；然后直接放入烧结炉中，通入气氛ITO靶材常压烧结工艺进展上海皓越真空设备有限公司
化学液相共沉淀法制备ITO纳米粉体的工艺研究 豆丁网
2016年3月27日 而获得高品质的ITo粉体是生产优质透明电极材料的关键。 本论文以4N铟、锡锭为原料，以25％氨水为沉淀剂，采用点滴法滴加氨水的方式的化学液相共沉淀法来制备ITO纳米粉体。2018年3月16日 1ITO膜的制作方式及优缺点分析 薄膜的性质是由制作工艺决定的，改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好，薄膜生长温度接近室温，与基板附着性好，能大面积均匀制膜且制膜成本低。浅谈ITO薄膜的制造工艺11 原料和设备 本实验以等离子电弧法制备的纳米ITO粉末为原料，其形貌如图1所示，其中氧化铟与氧化锡的质量比为9:1，平均粒径为150 nm，纯度大于9999%。分散剂为聚丙烯酸和氨水自配的聚丙烯酸氨，粘结剂为聚乙烯醇，消泡剂为正辛醇。用实验室搅拌磨 纳米ITO粉末的离心喷雾造粒工艺 百度文库2010年10月25日 1．2纳米ITO粉体的制备方法 目前对ITO的研究主要侧重于ITO薄膜材料的研究。 通过对分散纳米ITO粉 来制备导电浆料从而成膜，有助于复杂形状和大面积的制膜产业化，关于这方面 报道很少。纳米ITO粉体与浆料的制备及其性能 豆丁网
钨粉氢还原制备技术与关键装备
2018年11月23日 WO 3 还原成钨粉过程中的物相变化已有深入研究，想要提高钨粉质量，除有好的生产工艺之外，还需要有配套的设备来提供保障。 钨行业中，多管还原炉是国外先进企业应用最多的，而其监控手段所达到的智能化自动化水平，亦是衡量企业还原设备先进与否的重要标志。制粉设备制沙机百科知识厂家 制粉设备设备用化学共沉淀法制得粉体通过剪切分散法制备浆料采用和结果表明粉体晶体呈立方 制ITO粉设备砂石矿山机械网2016年11月9日 IT0(TindopedIndiumOxide)即氧化铟锡，是一种η型半导体材料，使用ITO革巴材，通过真空镀膜等途径制备的ITO薄膜已成为TFT1XD、PDP等平板显示器不可或缺的关键材料，也促使ITO靶材发展成令人瞩目的战略性高科技产业。靶材的品质直接决定薄膜性能的好坏，但国内镀膜厂家使用的高端ITO靶材一直依赖进口 一种制备高性能ito造粒粉的方法 X技术网2020年5月8日 本发明涉及一种氧化铟锡靶材的生产方法，特别涉及一种超高密度细晶氧化铟锡靶材的生产方法。背景技术氧化铟锡靶材（ito靶材）是一种电子陶瓷材料，主要用于磁控溅射镀制ito膜。ito膜是一种透明的导电性薄膜，用于制作显示器、触摸屏、led等需要透明电极的电子设备及元器件。ito靶材在使用 一种超高密度细晶ITO靶材的生产方法与流程 X技术网